পেরোভস্কাইট কোষের সুবিধা

স্ফটিক সিলিকন কোষের সাথে তুলনা করে, পেরোভস্কাইট কোষগুলির নিম্নলিখিত সুবিধাগুলি রয়েছে
1। উচ্চ ফটোয়েলেকট্রিক রূপান্তর দক্ষতা
ডেটা দেখায় যে একক স্ফটিক সিলিকন কোষগুলির তাত্ত্বিক সীমা দক্ষতা প্রায় 29%, অন্যদিকে একক জংশন পেরোভস্কাইট ফটোভোলটাইক কোষগুলির তাত্ত্বিক দক্ষতা 31%এ পৌঁছতে পারে; পেরোভস্কাইট স্ট্যাকড সেলগুলি, স্ফটিক সিলিকন/পেরোভস্কাইটের ডাবল-জংশনযুক্ত স্ট্যাকড সেলগুলি সহ, 35%এর রূপান্তর দক্ষতায় পৌঁছতে পারে এবং পেরোভস্কাইট ট্রিপল-জংশন কোষগুলির তাত্ত্বিক দক্ষতা 45%এরও বেশি পৌঁছতে পারে, সুতরাং এটি শিল্পের পরবর্তী প্রজন্মের দ্বারা আধ্যাত্মিক ফটোগ্রাফ হিসাবে বিবেচনা করা হয়।
2। সমৃদ্ধ উপকরণ এবং সংশ্লেষিত সহজ
স্ফটিক সিলিকন কোষগুলির প্রাথমিক কাঁচামাল হ'ল পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন, যার মূল সিলিকন উপাদান শুদ্ধ করার জন্য প্রচুর শক্তি প্রয়োজন। পেরোভস্কাইট কোষগুলির উত্পাদন প্রক্রিয়াটির জন্য সিলিকন উপকরণ প্রয়োজন হয় না। ধাতব হ্যালাইড পেরোভস্কাইট উত্পাদনের জন্য প্রয়োজনীয় কাঁচামাল প্রচুর এবং সস্তা। পূর্ববর্তী সমাধানের প্রস্তুতি কোনও জটিল প্রক্রিয়া জড়িত না এবং বিশুদ্ধতার প্রয়োজনীয়তা বেশি নয়। পরবর্তী উপাদানগুলিতে উচ্চ প্রক্রিয়াকরণ পরিবেশের প্রয়োজন হয় না। উপাদান উত্পাদন প্রক্রিয়াটির জন্য স্ফটিকের সিলিকন কোষগুলির প্রায় 1, 000 ডিগ্রি প্রসেসিং তাপমাত্রার প্রয়োজন হয় না। উত্পাদন প্রক্রিয়াতে শক্তি খরচ তুলনামূলকভাবে কম, এবং বেশিরভাগ লিঙ্কগুলিতে কোনও ভ্যাকুয়াম পরিবেশের প্রয়োজন হয় না। বর্তমানে, ইলেক্ট্রোড উপাদান পেরোভস্কাইট উপাদানগুলির ব্যয় কাঠামোর বৃহত্তম অনুপাতের জন্য অ্যাকাউন্ট করে, 37%এ পৌঁছায়, যখন পেরোভস্কাইটের উপাদান ব্যয় নিজেই কেবল 5%এর জন্য দায়ী। পেরভস্কাইট উপাদানগুলির ভবিষ্যতে ব্যয় হ্রাসের জন্য এখনও একটি বড় ঘর রয়েছে।
3। সংক্ষিপ্ত উত্পাদন প্রক্রিয়া
স্ফটিক সিলিকন কোষগুলির সাধারণত চারটি উত্পাদন এবং উত্পাদন পর্যায় প্রয়োজন: সিলিকন উপকরণ, সিলিকন ওয়েফার, ব্যাটারি এবং উপাদান। এই প্রক্রিয়াটি কমপক্ষে 3 দিন সময় নেয়, যখন টাইটানিয়াম আকরিক কোষগুলির উত্পাদন প্রক্রিয়াটি সহজ। গ্লাস, ফিল্ম, লক্ষ্য উপকরণ এবং রাসায়নিক কাঁচামালগুলি 45 মিনিটের মধ্যে একক কারখানায় উপাদানগুলিতে প্রক্রিয়া করা যেতে পারে। শিল্প চেইনটি উল্লেখযোগ্যভাবে সংক্ষিপ্ত করা হয়েছে এবং মানটি অত্যন্ত কেন্দ্রীভূত।
4। সমৃদ্ধ অ্যাপ্লিকেশন পরিস্থিতি
পেরোভস্কাইটে হালকা ওজন, নমনীয়তা এবং উচ্চ নিম্ন-আলো প্রতিরোধের বৈশিষ্ট্য রয়েছে এবং এর প্রবাহের প্রয়োগের পরিস্থিতিগুলি বিস্তৃত। ফটোভোলটাইক বিল্ডিং, বিদ্যুৎ উত্পাদন পর্দার দেয়াল, বিদ্যুৎ উত্পাদন পাথর, ছাদ ফটোভোলটাইক্স, মোবাইল ডিভাইস এবং বৈদ্যুতিন পণ্য, নেটওয়ার্ক সেন্সর ইত্যাদি সহ প্রযুক্তির অগ্রগতির সাথে পেরোভস্কাইটের প্রয়োগের পরিস্থিতি কল্পনা পূর্ণ।

এখনই যোগাযোগ করুন